イオンプレーティング膜の特徴
超高真空用コンポーネントへのTiNコーティング
タイゴールドはイオンプレーティング処理を企業化した受託加工のパイオニアです。イオンプレーティング法の中でもＨＣＤ法・ＡＩＰ法を主体とした硬質膜を成膜しております。金型・自動車部品をはじめ真空装置部品・印刷機器部品･医療器や工業材料、産業用、電子機器から民生用電気製品・装飾品まで様々な分野に広く利用されています。イオンプレーティング処理とは、真空中で蒸発させた金属原子をイオン化し、被処理物に負の電位を印加することにより密着性良く複合皮膜を形成させるコーティング方法です。タイゴールドはイオンプレーティング法の中でも、HCD（ホローカソード放電）法及びAIP（アークイオンプレーティング）法による被膜を提供致します。
表１
| 項目 | ＨＣＤ－ＴｉＮ | ＡＩＰ－ＴｉＮ | ＴｉＣＮ | 備考 |
|---|---|---|---|---|
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膜厚（μｍ） |
０．０１～５ | ０．５～２０ | ０．５～３ | |
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硬度（Hv） |
１，８００ | １，８００ | ２，０００ | 膜厚２μｍの場合 |
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密着強度（N） |
＞４０ | ＞６０ | － | |
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摩擦係数 |
＜０．５ | ＜０．６ | ＜０．５ | |
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耐熱温度（℃） |
３５０℃ | ３５０℃ | ３００℃ | |
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処理温度（℃） |
１５０～５００℃ | ５０～５００℃ | １５０～５００℃ | |
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目的 |
耐磨耗 耐食 離型 真空放出ガス抑制 装飾 |
耐磨耗 | 耐磨耗・装飾 | |
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詳しい資料 |
 PDF ﾀﾞｳﾝﾛｰﾄﾞ |
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表２
| 項目 | ＴｉＡｌＮ | ＡｌＴｉＮ | ＤＬＣ | 備考 |
|---|---|---|---|---|
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膜厚（μｍ） |
１～３ | １～３ | ０．５～２ | |
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硬度（Hv） |
２，２００ | １，２００ | ３，０００ | 膜厚２μｍの場合 |
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密着強度（N） |
－ | － | － | |
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摩擦係数 |
＜０．５ | ＜０．２ | ＜０．２ | |
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耐熱温度（℃） |
６００℃ | ８００℃ | ３００℃ | |
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処理温度（℃） |
２５０～５００℃ | ２５０～５００℃ | ＲＴ～２００℃ | |
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目的 |
耐磨耗 耐熱
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輻射防止・耐磨耗・耐熱 | 低摩擦・離型・装飾 | |
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詳しい資料 |
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表３
| 項目 | ＨＣＤ－ＣｒＮ | ＡＩＰ－ＣｒＮ | ＭｏＳ２／ＴｉＮ | 備考 |
|---|---|---|---|---|
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膜厚（μｍ） |
０．５～５ | ０．５～５ | ０．５～３ | |
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硬度（Hv） |
１，２００ | １，６００ | ５０ | 膜厚２μｍの場合 |
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密着強度（N） |
＞３０ | ＞４０ | － | |
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摩擦係数 |
＜０．３ | ＜０．５ | ＜０．１ | |
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耐熱温度（℃） |
５００℃ | ５００℃ | ３００℃ | |
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処理温度（℃） |
５０～５００℃ | ２５０～５００℃ | ＲＴ | |
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目的 |
耐磨耗 耐食 離型 装飾 |
耐磨耗 | 耐磨耗・耐高荷重 | |
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詳しい資料 |
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