成膜プロセスと特徴
タイゴールドの生産装置は１６台あります。
お客様のニーズにお応えするために様々な成膜プロセスをご用意しております。
| 成膜方法 | 装置タイプ | 成膜種類 | 特徴 | 装置台数 |
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HCD法
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Batch | Ｔｉ ＴｉＮ ＴｉＣ ＴｉＣＮ Ｃｒ ＣｒＮ ＣｒＣＮ | ①成膜面が機材の表面粗さと同等に仕上がる ②低温成膜（２００℃以下）が可能 | ４台 |
| HCD法 | Ｉｎｌｉｎｅ | Ｔｉ ＴｉＮ ＴｉＣ ＴｉＣＮ | ①成膜面が機材の表面粗さと同等に仕上がる ②低温成膜（２００℃以下）が可能 ③多量生産に優れる | ３台 |
| AIP法 | Batch | Ｔｉ ＴｉＮ ＴｉＣ ＴｉＣＮ Ｃｒ ＣｒＮ ＣｒＣＮ ＴｉＡｌＮ ＡｌＴｉＮ | ①成膜面粗さは損なわれるが密着性に優れる ②合金膜の成膜が可能 | ４台 |
| ｲｵﾝｱｼｽﾄ法 | Batch | ＤＬＣ | ①アモルファス構造のため表面が滑らか ②潤滑性、摺動性に優れる③摩擦係数が小さい（μ＝０．２以下） | １台 |
| ｽﾊﾟｯﾀﾘﾝｸﾞ法 | Batch | Ｔｉ系被膜 Ｃｒ系被膜 潤滑膜 貴金属膜 | ①目的に応じた成膜を提案いたします | ４台 |
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